プラズマCVD

2013年10月23日 19:55

　半導体素子をつくるシリコンウェハにシリコン酸化膜や窒化物の絶縁形成
タングステンやモリブデン膜、液晶やアモルファスシリコン膜の太陽電池製
造などでプラズマを利用した化学反応を伴う成膜技術がプラズマCVDです。

プラズマ化学的気相成長を略してPCVDといいます。装置内でのガスの流れ
が均一であることが非常に大切なため、ガス導入と真空排気の位置を装置メ
ーカーは工夫を凝らして設計しているようです。導入ガスにはハロゲン化合
物や水素化合物、アルキル化合物、アルコキシ化合物、酸素、水素、窒素な
ど使われます。膜材料を含んだガスに高周波電界をかけてイオンや電子に分
解しプラズマができます。そこで膜材料とガスが分解したイオンが数百度に
加熱された基板に達して化学的に付着します。蒸着やスパッタリングなどの
物理吸着でないため膜に密着力があり、また、プラズマによりガス分解させ
るため比較的低い温度で成膜が可能です。装置内でのガス導入時の圧力は 1
〜100 Pa でガス供給側と真空排気側で微妙なバランスを取っています。

真空装置や分析装置のガス導入機器やガス供給配管、ガス機器パネルなど
川口液化ケミカルケミカル株式会社までご相談ください。
TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
E-mail : info★klchem.co.jp
※★を@に変えてお知らせください。

ありがとうございます

今日の埼玉県川口市のお天気は？
　2013年10月23日　水曜日
　※AppleはiPad Air/iPad mini/Mac Proなどの新製品を発表するプレスイベントを開催しました。
　発表会にはティム・クックCEOが登壇しフィル・シラー氏らと共に新製品の特徴などを紹介
　しました。
　天気　はれ
　ボンベ庫の温度　朝15℃、昼17℃、夜17℃
　本日の電力最大消費率は？
　東電89%、北陸電91%、中部電92%、関西電86%、中国電95%、四国電92%、九州電90%
　北海道電89%、東北電85%
です。

良心が指し示す方向に進む

　いいモノをつくるのも

　いいことをするのも

　すっごく大変。

　非効率で、手間もお金もかかり、割に合わない。

　反対者がいたり、いろいろ言う人もいる。

　それでもなお

　逆風に負けずに

　譲れないことを譲らず

　退けないところは退かず

　良心に従って

　追及し続けていたならば