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レーザーアニール装置

2011年9月18日 22:53

 シリコンウエハーを使用せず石英やガラス基板などの表面にシリコンの薄膜を形成し
それを結晶化することでシリコンデバイスができないか?

そうした考えから派生したのがレーザーアニールです。紫外線をシリコンウエハーに照
射してシリコン表面を溶融させ熱処理を行うのがレーザーアニール装置です。

この技術は現在のLCD液晶を駆動するアモルファスシリコンTFTに生かされていま
すが、結晶化に実用化されたのは1967年のエキシマレーザーが始まりで、電子
アニールなども検討されましたが、レーザー装置の大型化などにより固体レーザー
なども実用化が進んでいます。

 レーザーアニールの光源は400nm以下の短波長紫外線を使用し、希ガスとハロゲ
ンガスのXeCl 308nmエキシマレーザーなどが使用されております。また、近年ブル
ーレイがスタートしましたが青色の405nm波長を使用した化合物半導体結晶を用
いた固体レーザーです。エキシマレーザーはミラーと光学系によりビームを絞り込みエネル
ギーが均一になるように整形しウエハーに照射します。紫外線レーザーはシリコンの
極々表面にしか吸収されず、表面だけが溶融して再結晶化し微細化に伴
う極々浅い接合に適しているといわれております。

 RTA( Rapid Thermal Anneal ) は 800nm の赤外線を使用しますのでシリコンウ
エハー全体に吸収され昇温が早く光源ランプを使用しますので複数種のランプ照
射が可能です。これに対し、レーザーアニールはビームサイズに限界がありますので
スループットの面では一括照射のRTAよりもウエハー上をスキャニングするレーザーアニール装
置が不利になります。


エキシマレーザー用ガス供給設備、F2 , HCl , He , Ne , Kr , Xe など特殊ガス配管工事
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TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

ありがとうございます

今日の埼玉県さいたま市のお天気は?
 2011年9月18日 日曜日
 ※ドイツ総合電機大手シーメンスが原発事業から完全に撤退する方針
  を決めたそうです。

 天気 はれ
 気温 26℃(PM11:00)

です。


できること、どうしようもないこと 

 「もっと分かって」

 「少しは手伝って」

 「ちょっとぐらい・・・」


 と相手に期待するほど

 自分の心は乱れていく


 そもそも

 思い通りに相手を動かすのは不可能

 不平や不満、文句を言っても

 嘆いても何も変わらない

 まず、自分ではどうすることもできないことを知ること


 次は、自分ができることや、すべきことを見つけること


 最後は、何度も工夫改善をして、人様のお役に立つこと

 やがて・・・


 周りはあなたを分かってくれ

 喜んで手伝ってくれるようになる

(小田真嘉氏成長のヒントブログより)

 By との

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