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スパッタリング用ガス

2010年1月21日 22:00

 スパッタリングはグロー放電を起こした際にイオンの陰極表面
への衝突により陰極材料が飛び出す現象です。

 PVD(Physical Vapor Deposition : 物理蒸着法)に分類される
スパッタリングには、コンベンショナル・スパッタリングやマグネト
ロン・スパッタリング、イオンビーム・スパッタリング、ECRスパッ
タリングなどがあります。

 このスパッタリングには、通常アルゴンガスを使用します。スパッ
タされる材料が活性ガスと反応して、化合物とならないようにする
ために不活性ガスが使われるのです。コストとスパッタ率(効率)
が良い理由でアルゴンが使われますが、他にも He , Ne , Xe, Kr
N2 , O2を使ってスパッタすることも可能です。
 N2 , O2 など活性ガスを使用するとスパッタリングされた分子が
窒化物や酸化物になります。活性ガスの混合したスパッタを、化成
スパッタリング、反応性スパッタリング、リアクティブスパッタリング
などと呼んでおり、化合物を成膜する目的に使用されています。


スパッタリングガス Ar,He,Ne,Xe,Kr,N2,O2 のご用命ご相談は
川口液化ケミカル株式会社まで、どうぞご連絡ください。
TEL 048-282-3665

E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

ありがとうございます

今日の埼玉川口のお天気は?
 1月21日 木曜日
 天気 はれ
 ボンベ庫の温度 昼12℃、夜12℃

です。
 ハイチ地震でビックリするような子供の救出劇が
あったそうで、地震で下敷きになった瓦礫の下で
生後15日の赤ちゃんが1週間生きていたり
5歳、11歳の子供が同様に救出されています。
現地の医師は、神がかっているとしか言えないと
コメントしていました。

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