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CVD・エッチング用ガス

2009年9月 6日 18:39

 超高真空での分子線蒸着(Molecular Beam Epitaxy : MBE)でも
気体の蒸発源、スパッタリング、イオンプレーティング、化学蒸着
(Chemical Vapor Deposition : CVD)法などの成膜用、ドライエッチ
ングやアッシングなどの膜成形法には多種多様なガスが使用されま
す。CVD法とドライエッチングで使用される気体の種類をあげてみま
しょう。

金属・半導体 CVD法に使用されるガス
・シラン            SiH4
・ジシラン           Si2H6
・ジクロルシラン       SiH2Cl2
・トリクロルシラン      SiHCl3
・四塩化ケイ素        SiCl4
・三塩化アルミニウム    AlCl3
・六フッ化モリブデン     MoF6
・六フッ化タングステン    WF6
・ホスフィン           PH3
・三塩化リン          PCL3
・アルシン           AsH3
・ジボラン           B2H6
・三フッ化ホウ素       BF3
・三塩化ホウ素       BCl3

金属・半導体のエッチングに使用されるガス
・三臭化アルミニウム    AlBr3
・三塩化アルミニウム    AlCl3
・三臭化ホウ素        BBr3
・三塩化ホウ素        BCl3
・三フッ化ホウ素       BF3
・臭素             Br
・四フッ化炭素        CCl4
・四フッ化炭素(フロン14)   CF4
・六フッ化エタン(フロン116) C2F6
・八フッ化プロパン(フロン218) C3F8
・オクタフロロシクロブタン(フロン218) C4F8
・パーフロロペンタン(フロン41-12) C5F12
・エタン            C2H6
・臭化メチル         CH3Br
・塩化メチル         CH3Br
・塩化ビニル         C2H3Cl
・三フッ化メタン(フロン23)   CHF3
・一酸化炭素         CO
・二酸化炭素         CO2
・塩素              CL2
・フッ素             F2
・臭化水素           HBr
・塩化水素           HCl
・フッ化水素          HF
・三フッ化窒素        NF3
・酸素              O2
・三塩化リン         PCl3
・六フッ化硫黄        SF6
・四臭化ケイ素       SiBr4
・四塩化ケイ素        SiCl4
・四フッ化ケイ素       SiF4


特殊ガス、特殊ガス用流量計、特殊ガス配管工事など
川口液化ケミカル株式会社まで、どうぞよろしくお願い致します。
TEL 048-282-3665

E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

ありがとうございます

今日の埼玉のお天気は?
 天気 晴れ
 気温 25℃

です。
 太陽が燦々と照っていますが、風が涼しく、過ごしやすくなりました。
夜になると、鈴虫の鳴き声が更に涼しさを演出してくれます。
あと少しすると、寒いくらいの気候になります。
冬も感じられる季節に移っていきます。

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