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スパッタ装置

2009年3月24日 17:58

 大学研究所や研究機関などで最もメジャーな真空装置
のひとつがスパッタリング装置(通称:スパッタ装置)です。

 10-1〜10-2 Pa のアルゴンガスの中で二つの電極間に
放電現象を発生させ、生成したアルゴンガスイオンを加速し
てターゲットに衝突させます。するとアルゴンイオンは、ター
ゲット金属の表面をたたいて金属原子(または分子)が飛び
出します。ターゲットの反対側(対向側)にある基盤に付着し
ます。このイオンの衝突により固体表面からの原子や分子
の放出をスパッタリング現象と呼びます。その現象を利用す
る薄膜作成装置のことをスパッタリング装置(スパッタ装置)
と呼ぶのです。
 スパッタ反応室である真空チャンバーの中の圧力を10-5
〜10-6 Pa まで真空排気し、そのあと純アルゴンガスを約
100sccm 程度の流量でガス導入しながら同時に真空排気
しスパッタ現象に必要な圧力をバランスさせて維持するので
す。


スパッタ装置用高純度アルゴンガスやアルゴンガス導入系の
高純度ガス配管工事など、川口液化ケミカル株式会社まで
どうぞご相談ください。
TEL 048-282-3665

E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

ありがとうございます

今日の埼玉のお天気は?
 3月24日 火曜日
 天気 はれ
 ボンベ庫の温度 朝7℃、夜9℃

です。
 WBCサムライジャパンがみごと優勝しました!!!
前回大会に続く2連覇です。
5度の韓国との戦いは非常な緊張感につつまれていて
ちょうど昼ごはんを食べながら見ていましたが
午後の始業時間がきてもそのままテレビ釘付けでしたね。
それにしてもよく優勝したものです!
これで野球人気が復活するかな?

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