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半導体用ガス

2007年12月 2日 21:04

 半導体用ガスの種類は多種多様にわたり、その用途も
またさまざまなものです。

雰囲気用ガス : Ar,O2,N2,H2
用途
 Ar : 不活性雰囲気用、シリコン単結晶炉
 O2 : 酸化性雰囲気、キャリアガス、酸化炉、拡散炉、CVD炉
 N2 : 不活性雰囲気、キャリヤガス、拡散炉、アニール炉
 H2 : 還元性雰囲気、エピタキシャル炉

原料ガス : SiH4,SiHCl3,SiCl4
用途
 SiH4 : エピタキシャル成長、ポリシリコン単結晶
 SiHCl3 : エピタキシャル成長、多結晶シリコン(単結晶用)
 SiCl4 : エピタキシャル成長

薄膜形成用ガス : SiH4,NH3
用途 
 SiH4 : SiO2膜、deped oxide膜、窒化膜形成
 NH3 : 窒化膜形成

ドーピング用ガス : PH3,B2H6,AsH3,SbH3,POCl3
用途 
 PH3 : 拡散、doped oxide膜、エピタキシャル、単結晶のドーピング
 B2H6 : 拡散、doped oxide膜、エピタキシャル、単結晶のドーピング
 AsH3 : deped oxide膜、エピタキシャルのドーピング、拡散
 SbH3 : エピタキシャルのドーピング、拡散
 POCl3 : 拡散、パッシベーション

エッチング用ガス : CF4,CCl4,HCl
用途
 CF4 : 酸化膜、ポリシリコン、窒化膜などのエッチング
 CCl4 : Al,Crなど金属のエッチング
 HCl : シリコンウエハーのエッチング

などなど。
 これらの半導体用ガスは単なるガスでなく、ガス関連技術
(製造、精製、計量、分析、ほか)を集積したファインケミカル
であり、ボンベの運搬までガス純度に影響しうるレベルが求
められるのです。

高純度ガス、高純度ガス用調整器、バルブ、マスフロコントローラー
など川口液化ケミカル株式会社までお気軽にご相談ください。

TEL 048-282-3665

E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

ありがとうございます。
よろしくお願い致します。


今日の埼玉のお天気は?
 12月2日
 天気 はれ
 気温 9℃

です。
NHKの紅白歌合戦の司会者など宣伝が始まり
大河ドラマも物語の佳境を向かえ、年の瀬に近づ
いたことを感じさせますね。


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