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ドーピングガス

2007年12月 1日 21:52

 半導体のシリコンICは、その母体となるシリコンウエハー
の上にエピタキシャル成長させた薄膜を作るところまで昨日
ご紹介してまいりました。
 その薄膜がそのままの状態ではICとして何の機能も果た
しません。まずはその薄膜の正確な位置を設計図に基づき
正確に窓(穴)を開けます。フォトマスクと呼ばれるフィルムで
印画紙に写真を焼き付けるように窓のあとをつけます。この窓
の部分をエッチングと呼ばれる方法で除去します。かつては
液体の薬品で行いましたが、HClやCF4などのエッチングガス
を用いてミクロン単位の微細な加工をしていきます。
 掘られて露出したシリコンの部分に窓を通じて不純物を滲み
こませます。ドーピング工程と呼ばれ「リン」「ホウ素」「ヒ素」など
をPH3(ホスフィン)・B2H6(ジボラン)・AsH3(アルシン)といっ
たドーピングガスを使用し処理ます。これらのガスは毒性が極め
て高く取扱いには厳重な注意が必要です。これらのガスをイオン
化させて窓を通してウエハー表面に滲み込ませる(打ち込む)こ
とをイオン注入と称します。

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 天気 はれ
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1964年東京オリンピックでも使用された県営大宮
サッカー場がNACK5スタジアムの名称でJ1チーム
大宮アルティージャのホームグラウンドとして改修工事
を終え先週リニューアルオープンされました。
グラウンドとピッチが近く選手が激しく競り合う生の声を
感じることができます。

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