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真空成膜法 CVD

2006年9月23日 22:00

成膜技術の代表的な手法CVDは、実験設備から
生産現場まで幅広く利用されている手法です。

化学的気相法(化学蒸着法)とは、薄膜の材料になる
構成分子を含む化合物ガスをチャンバー(成膜室容器)内に
導入します。

そして化学反応の力を利用して目的の原料を薄膜の組成
に合わせて積層させ膜作りをすすめていきます。
原料となるガスは、さまざまなものが利用されますが、有機
金属化合物ガスを用いる場合を、MOCVDと呼んでいます。
日亜化学のブルーLEDを成功させたのはこの成膜装置です。

GaAs、InP などなど話題の技術となっております。

化学反応のエネルギーは、熱(抵抗加熱、赤外線ランプなど)
、プラズマ(直流、高周波、マイクロ波など)、光(紫外線ランプ
、レーザーなど)が主なものです。

大学、研究所、基礎研究用のCVD装置の新規設計製作や
既存装置の改造、チャンバーの拡張、重金属の無害化処理など
川口液化ケミカル株式会社まで、どうぞご相談ください。
TEL 048-282-3665

E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

ありがとうございます。


今日の格言
男に生まれた人生観とは?
「何もせずにじっとしておれば、一日が二日みたいな気になるものだ。
 もし一生涯を全部こんな気分に切り替えることができれば、七十まで
 生きたとしても、それは百四十歳の寿を得たことになる。こんな素晴らしい
 長生きの薬は、めったにあるものではない。副作用もなければ
 金もかからぬ。人間は誰でも、この処方をそなえておるのに、困ったことには
 よい白湯がないために、せっかくの薬が服めぬという始末だ。」
(蘇東坡)

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