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特殊材料ガス

2006年7月17日 22:41

特殊材料ガス(半導体材料ガス)の用途は、各装置メーカー
によって解釈が異なる場合がありますが一般的な使用例
として以下にご紹介いたします。

・CVD
 SiH4,100%(シラン)
 Si2H6,100%(ジシラン)
 SiH2Cl2(ジクロルシラン)
 SiF4(四フッ化ケイ素)
 D2(重水素)
 NH3(アンモニア)
 CH4(メタン)
 C2H4(エチレン)
 ClF3(三フッ化塩素)
 WF6(六フッ化タングステン)
 SO2(亜硫酸ガス)
 O2(酸素)

・Epi
 SiH4,100%(シラン)
 SiH2Cl2(ジクロルシラン)
 GeH4,10%Down(モノゲルマン)

・拡散炉
 H2,(水素)

・キャリーガス
 H2,(水素)
 He(ヘリウム)
 Ar(アルゴン)
 Ne(ネオン)
 Kr(クリプトン)
 Xe(キセノン)
 N2(窒素)

・ドーピング
 H2Se,1%Down(セレン化水素)
 GeH4,10%Down(モノゲルマン)
 AsH3,3%Down(アルシン)
 PH3,1%Down(ホスフィン)
 B2H6,3%Down(ジボラン)
 BF3(三フッ化ホウ素)

・エッチング
 Cl2(塩素)
 HCl(塩化水素)
 HBr(臭化水素)
 NF3(三フッ化水素)
 CH2F2(二フッ化メタン)
 SF6(六フッ化硫黄)
 CF4(四フッ化メタン)
 C2F6(六フッ化エタン)
 C3F8(八フッ化プロパン)
 CHF3(三フッ化メタン)
 CO(一酸化炭素)
 CO2(二酸化炭素)

・ステッパ
 F2+Ne(フッ素ネオン)
 F2+Kr+Ne(フッ素クリプトン)
 F2+Ar+Ne(フッ素アルゴン)

・酸化炉
 O2(酸素)

高圧ガス・真空機器・低温機器の機種選定は川口液化ケミカル株式会社
まで、ぞうぞご相談ください。
TEL 048-282-3665
E-mail : CutHere_info@klchem.co.jp

よろしくお願いいたします。

ありがとうございます。


今日の格言
理想への挑戦とは?
「理想とは不満の意を表明する方法のことである。」
(ヴァレリー)

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